什么是紫外臭氧清洗?

紫外臭氧清洗是一種光敏氧化處理過(guò)程。在處理過(guò)程中，有機分子在吸收短波長(cháng)紫外輻射后，與臭氧分子發(fā)生化學(xué)反應，使有機分子從樣品表面分離下來(lái)。紫外臭氧清洗是一種卓越的清潔技術(shù)，可清潔光敏表面、樹(shù)脂表面，以及洗滌溶劑、助焊劑、油類(lèi)中的殘留物，可以對你的樣品進(jìn)行表面殺菌處理而不影響表面屬性。紫外臭氧清洗與其它清洗技術(shù)(如氧等離子清洗)不同，不會(huì )導致樣品表面損傷。

紫外臭氧清洗機利用高強度紫外光源，在185nm和 254nm兩個(gè)波長(cháng)照射目標表面進(jìn)行處理。樣品倉內的分子氧(O2)在200nm以下波長(cháng)的紫外線(xiàn)照射下進(jìn)行分解，產(chǎn)生兩個(gè)氧自由基(O?)。每個(gè)氧自由基隨后與更多的氧分子發(fā)生反應，生成臭氧(O3)分子(圖1)。沒(méi)有被殘余氧吸收的大于200nm波長(cháng)的紫外線(xiàn)被基片表面上的有機化學(xué)鍵大量吸收，導致激發(fā)狀態(tài)或有機自由基的產(chǎn)生。這些活性有機物種與不穩定的臭氧分子接觸時(shí)會(huì )產(chǎn)生易揮發(fā)性物種，如CO2，H2O，N2及短鏈有機化合物。這種揮發(fā)性物質(zhì)極易從樣品表面揮發(fā)釋放，達到表面清潔的效果。

英國Ossila紫外臭氧清洗機可以去除樣品表面污染，數分鐘內產(chǎn)生超凈表面。它利用高能紫外光源產(chǎn)生臭氧，臭氧將樣品表面的污染物分解為揮發(fā)性化合物。揮發(fā)性化合物從樣品表面蒸發(fā)，不留痕跡。這種清潔方法可以產(chǎn)生接近原子級的清潔表面，而不會(huì )對樣品表面產(chǎn)生損壞。

英國Ossila紫外臭氧清洗機的托盤(pán)尺寸為100mmx100mm，可將樣品定位于紫外光源下。您只需將樣品放到托盤(pán)上，關(guān)上倉門(mén)，設置好時(shí)間，按開(kāi)始鍵即可。

英國Ossila紫外臭氧清洗機性?xún)r(jià)比高，廠(chǎng)家提供2年免費質(zhì)保。

目前紫外臭氧清洗機的主要應用表面UV光清洗和表面UV光改質(zhì)。

u 表面UV光清洗：利用紫外光以及由其產(chǎn)生的臭氧OZONE，對有機物質(zhì)所起的光敏氧化分解作用，以達到去除粘附在物體表面上的有機化合物（碳氫化合物），獲得超潔凈的表面。

u 表面UV光改質(zhì)：利用紫外光照射有機表面，在將有機物分解的同時(shí)，254nm波長(cháng)的紫外光被物體表面吸收后，將表層的化學(xué)結構切斷，光子作用產(chǎn)生原子氧會(huì )與被切斷的表層分子結合，并將之變換成具有高度親水性的官能基（如-OH，-CHO，-COOH），從而提高表面的浸潤性。

主要應用

u 石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過(guò)濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等。

u 微電子產(chǎn)品的表面清洗：微型馬達軸,磁頭驅動(dòng)架,光盤(pán),光電器件,手機攝像頭,微型喇叭/受話(huà)器震膜,半導體硅片,掩膜版。

u 精密集成電路的表面清洗：液晶顯示器ITO,精密電路板,軟性電路板接頭,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金屬基板的清洗,BGA基板與粘結墊的清洗。

u 在膠粘接或是印刷之前，對高分子聚合制品的表面改性：橡膠粘接，塑料汽車(chē)部件，透鏡保護膜,塑料薄膜,樹(shù)脂成型空氣袋,IC包裝,注射針接合部份的表面性,介入導管的表面改型等。

u 科研過(guò)程的表面清洗及處理：半導體，生物芯片，納米材料，聚合物，光化學(xué)等。              

紫外臭氧清洗機適用的樣品類(lèi)型包括:

· 石英

· 硅

· 二氧化硅

· 氮化硅

· 金

· 鎳

· 鋁

· 砷化鎵

· 氧化鋁

· 玻璃

· 不銹鋼

產(chǎn)品特點(diǎn)

u 成本低。

u 120x120mm樣品臺。

u 大處理樣品高14mm。

u 抽屜式樣品臺，簡(jiǎn)單方便。                                 

u 樣品臺自動(dòng)安全開(kāi)關(guān),打開(kāi)UV自動(dòng)關(guān)閉，防止對人身傷害。                

  UVO顯示器

u LCD屏顯示“已用時(shí)間”和“剩余時(shí)間”。

u 60分鐘定時(shí)器。

u 高強度UV燈源。

u 可控溫的樣品臺。

u 樣品清洗無(wú)需溶劑。

u 超凈表面。                                                                                 

UVO樣品托盤(pán)

二、技術(shù)參數