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等離子清洗工藝在IC封裝行業(yè)中的應用

國內目前的IC封裝 工藝主要劃分為前段、中段及后段工藝,只有封裝 質(zhì)量好的產(chǎn)品才能成為終端產(chǎn)品,從而投入行業(yè)的 實(shí)際應用。

前段工藝步驟為: 

1)貼片:使用保護膜及金屬框架將硅片固定; 

2)劃片:將硅片切割成為單個(gè)芯片并對芯片進(jìn) 行檢測,篩選檢測合格的芯片; 

3)裝片:將引線(xiàn)框架相應位置點(diǎn)上銀膠或者絕 緣膠,從劃片貼膜上將切割好的芯片取下,并將芯 片粘接在引線(xiàn)框架的固定位置上; 

4)鍵合:利用金線(xiàn)將芯片上引線(xiàn)孔以及框架上 的引腳連接,使芯片與外部電路導通連接; 

5)塑封:塑封元器件的線(xiàn)路,保護元器件不受 外力損壞,加強元器件的物理特性; 

6)后固化:對塑封材料進(jìn)行固化,使其具有足 夠的強度以滿(mǎn)足整個(gè)封裝過(guò)程。 

引線(xiàn)框架是芯片的載體,是一種利用鍵合金絲 達到芯片內部電路的引出端與外引線(xiàn)的導通連接, 形成電氣回路的重要結構件,起到了與外部導線(xiàn)相 接的橋梁作用。引線(xiàn)框架應用在很多的半導體集成 塊上,是半導體產(chǎn)業(yè)中重要的基礎材料。IC封裝行 業(yè)工藝必須在引線(xiàn)框架上完成。在封裝工藝中存在 的污染物是制約其發(fā)展的重要因素。 

等離子清洗工藝是唯一無(wú)任何環(huán)境污染的干法 清洗方式。真空狀態(tài)下的等離子作用能夠基本去除 材料表面的無(wú)機/有機污染,提高材料的表面活性, 增加引線(xiàn)的鍵合能力,防止封裝的分層。 

等離子體清洗工藝在IC封裝行業(yè)中的應用主要 在以下幾個(gè)方面:

1)點(diǎn)膠裝片前 工件上如果存在污染物,在工件上點(diǎn)的銀膠就 生成圓球狀,大大降低與芯片的粘結性,采用等離 子清洗可以增加工件表面的親水性,可以提高點(diǎn)膠 的成功率,同時(shí)還能夠節省銀膠使用量,降低了生 產(chǎn)成本。

2)引線(xiàn)鍵合前 封裝芯片在引線(xiàn)框架工件上粘貼后,必須要經(jīng) 過(guò)高溫固化。假如工件上面存在污染物,這些污染 物會(huì )導致引線(xiàn)與芯片及工件之間焊接效果差或黏附 性差,影響工件的鍵合強度。等離子體清洗工藝運 用在引線(xiàn)鍵合前,會(huì )明顯提高其表面活性,從而提 高工件的鍵合強度及鍵合引線(xiàn)的拉力均勻性。

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